Система химического осаждения из газовой фазы с использованием графена и оборудование для плазмохими

   На фотографии изображена трубчатая печь для CVD-процесса, приобретенная заказчиком из исследовательской лаборатории XX университета в Китае. Система трубчатой ​​печи для CVD-процесса была куплена этим заказчиком в 2019 году. Система CVD состоит из трубчатой ​​печи с температурой 1200°C, трехканального газосмесительного устройства с расходомером и вакуумного насоса.

В 2021 году они снова приобрели систему PECVD (оборудование для плазменно-химического осаждения из паровой фазы). Система (PE-CVD) состоит из трубчатой ​​печи, трехканального газосмесительного устройства с расходомером, вакуумного насоса и радиочастотного плазменного источника. Это оборудование PECVD подходит для процессов выращивания графена и CVD-экспериментов, требующих быстрого нагрева и охлаждения.

Компания Zhengzhou Kejia Electric Furnace Company имеет многолетнее сотрудничество с университетами, предприятиями и научно-исследовательскими институтами в Китае и по всему миру. Многие проекты используют наши электропечи, которые пользуются большой популярностью. Добро пожаловать, обращайтесь с запросами.