Введение в продукт

система химического осаждения из газовой фазы (CVD)

Система CVD в основном состоит из вращающейся трубчатой ​​печи, вакуумной системы, устройства смешивания газов и системы управления. В ней используется система ПИД-регулирования температуры, обеспечивающая превосходную точность потока газа, простоту эксплуатации, а также отличную теплоизоляцию и равномерность температуры. Она в основном используется в университетах, исследовательских центрах и производственных предприятиях для экспериментов и производства, связанных с химическим осаждением из газовой фазы.

Система плазменно-химического осаждения из паровой фазы (PECVD)

Оборудование для PECVD-процесса состоит из вращающейся трубчатой ​​печи , источника ВЧ-излучения для плазмы, вакуумной системы, системы подачи газа и системы управления. Оно может смешивать от 1 до 6 газов для PECVD-процесса или диффузии. Система использует источник ВЧ-излучения для преобразования газов в вакуумной камере в ионное состояние. Плазма обладает высокой химической активностью и легко вступает в реакцию, осаждая желаемую тонкую пленку на подложке. Пленки, полученные методом PECVD, демонстрируют превосходные электрические свойства, хорошую адгезию к подложке и очень хорошее покрытие ступенек. Они в основном используются для таких экспериментов, как выращивание графена, выращивание двумерных материалов, осаждение карбида кремния, тестирование проводимости керамических подложек, контролируемый рост наноструктур ZnO и атмосферное спекание многослойных керамических конденсаторов (MLCC). 

Области применения

Оборудование для химического осаждения из паровой фазы широко используется в следующих областях:

Осаждение тонких пленок: используется для осаждения различных тонких пленок, таких как пленки оксидов, нитридов и карбидов, включая диоксид кремния (SiO₂), нитрид кремния (Si₃N₄) и оксид цинка (ZnO).

Получение наноматериалов: используется для выращивания двумерных материалов, таких как углеродные нанотрубки и графен.

Спекание в вакуумной атмосфере: используется для процессов химического осаждения из газовой фазы (CVD) или диффузии, включая широкий спектр изоляционных материалов, а также большинство металлических материалов и металлических сплавов, двумерные материалы, такие как покрытие из карбида кремния, тестирование проводимости керамических подложек и атмосферное спекание

Витрина продукции

Технические параметры